MRF™ 拋光由 QED 獨家提供，靈活快速、可靠且準確。
借助車間中的 MRF 機器，您可以將光學表面拋光至原始形狀、形狀和光潔度，無論對稱性、幾何形狀或斜率變化如何。
我們的 MRF 系統系列具有許多優勢，可以消除傳統拋光的固有問題。
磁流變法的優點：
MRF 為精密光學制造帶來了精度、確定性和可重復性。
提供完全確定性的過程，可以表征為非常高的精度
符合復雜表面，提供拋光非球面和完全自由形狀的靈活性
由于去除率高，因此縮短了循環時間
保持工藝穩定性
提供精密光學制造系統，擴大設計選擇并提高成本效益
拋光球面透鏡、非球面透鏡、棱鏡、自由曲面等。
磁流變拋光
更快地生產更好的光學器件。
QED 的 MRF 計算機控制拋光系統可確定地產生更好的高精度光學器件。
無與倫比的準確性和重復性
高精度表面 (lambda/50)
透射波前校正（窗口、相位板、一個表面上的整個系統校正）
光學玻璃、單晶（氟化鈣、硅……）和陶瓷
方形和矩形孔徑表面，例如棱鏡、圓柱體和光空白基板
溫和和狂野的非球面、圓柱體和自由形狀
高深寬比光學器件和基板（薄膜濾光片、標準具基板、半導體晶圓等）
MRF 實現了許多光學行業人士過去認為不可能的事情。
拋光球形、非球面、自由形狀、圓柱形或任何其他數學定義的形狀
解決厚度均勻性（對于絕緣體上硅半導體晶圓應用很重要）或光學厚度
MRF 還可以通過以下方式提高表面完整性：
消除微裂紋和地下損傷
消除殘余應力
提高玻璃對激光損傷的抵抗力
磁流變拋光
磁場產生鐵顆粒的堅硬結構，迫使水和磨料以薄層形式到達頂部。創建了一個收斂間隙。形成核心，形成剪切流體層。產生壓力梯度并產生基于剪切的高速去除。
工件安裝在距移動的球形輪固定距離處。位于輪表面下方的電磁體在輪和工件之間的間隙中產生磁場。當 MR 流體輸送到砂輪時，磁場將其拉向砂輪表面，并將工件放入 MR 流體帶中，從而形成子孔徑拋光工具，也稱為“光斑”。當工件以旋轉或光柵路徑掃過拋光區域時，復雜的計算機程序確定改變工件位置的時間表。
計算機數控、精密工作站和復雜的計算機算法有助于確保 MRF 拋光系統的自動化和穩健性。易于使用的觸摸屏界面引導操作員完成自動化過程的每一步。穩定性、可預測性和可重復性是每個 MRF 拋光周期的特征。
直觀且易于使用
光學表面誤差在干涉儀上得到全面表征，并傳輸至 MRF 系統。
用戶友好的軟件可以計算糾正表面誤差所需的最佳刀具路徑。
預運行設置通過集成模擬進行驗證。
拋光過程中實時監控進度。
高級分析功能評估最終結果。
1、磁流變拋光Q22-1200
使用一臺機器即可對尺寸達 1.2 米的研磨自由曲面光學元件進行高精度拋光和精加工！
最新的磁流變射頻技術
擴展尺寸能力
拋光孔徑尺寸可達 1200 mm
QED.NET軟件
EFMS（電子流體監控系統）流體控制系統。
技術能力
拋光最大 1200 mm x 1200 mm 的平球面、非球面、柱面和自由曲面光學器件
多部分批量拋光軟件
提供 4 種不同的軸配置
可互換的拋光頭
50 毫米 MRF 輪可以拋光細小的表面特征并減少邊緣效應。
370 mm MRF 砂輪具有較高的材料去除率，可快速覆蓋大表面。
拋光墊可以進行預拋光或平滑處理：
可變軌道和自旋轉速
可變壓力
50 毫米和 100 毫米墊拋光頭
咨詢電話：13522079385
技術規格：
工件
最大工件尺寸* 1200毫米
最大工件重量* 400公斤（含鏡架）
最大半角 30度
工件固定方式** 機械式（真空可選）
軸*** X、Y、Z、A、B、C、Q、Zp
移動范圍***
（X） 1606毫米
(是) 1016毫米
（Z，Z素數） 740毫米
(二) B +/-32 度
（C） C +/-35 度
（問、答） 連續或 360 度
定位精度***
（X、Y、Z） +/- 0.0076 毫米
（乙、問） +/- 20 角秒
（C） +/- 10 角秒
2、磁流變拋光Q22-750P2
Q22-750P2 是一款大孔徑 MRF 機器，將 MRF 成形能力擴展到大型、長半徑零件。
3、磁流變拋光Q22-600
Q22-600 為拋光大孔徑精密光學器件提供了更多選擇。
4、磁流變拋光Q-FLEX 300
Q-flex 300 為任何光學車間（從原型到批量生產）帶來了更多功能和效率。
5、磁流變拋光Q-FLEX 100
Q-flex 100 為任何光學車間（從原型到批量生產）帶來了更多功能和效率。